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LINDA橫浜油脂_MF-2_有機堿性清洗劑

如果您對該產品感興趣的話,可以
產品名稱: LINDA橫浜油脂_MF-2_有機堿性清洗劑
產品型號: MF-2
產品廠商: 巖瀨商事
產品文檔: 無相關文檔

簡單介紹

LINDA橫浜油脂_MF-2_有機堿性清洗劑 LINDA橫浜油脂_MF-2_有機堿性清洗劑


LINDA橫浜油脂_MF-2_有機堿性清洗劑  的詳細介紹

LINDA橫浜油脂_MF-2_有機堿性清洗劑

LINDA橫浜油脂_MF-2_有機堿性清洗劑

LINDA橫浜油脂_MF-2_有機堿性清洗劑

LINDA橫浜油脂_MF-2_有機堿性清洗劑

LINDA橫浜油脂_MF-2_有機堿性清洗劑


ガラス基板用洗浄剤

中性洗浄剤

洗浄物に対して影響が少なく、レンズ、光學部品、精密部品の洗浄にも使用可能。

製品名 使用溫度 使用濃度 pH 特長
M-1 常溫～40℃ 1～10% 6.5
(原液) 		非イオンタイプ。油分、研削剤、塵埃などの汚れを乳化分散、除去。
M-2 常溫～80℃ 1～10% 7.2
(原液) 		非イオン、アニオン併用タイプ。高溫での洗浄が可能で、優れた洗浄力を長期維持。
M-4 常溫～40℃ 1～10% 8.4
(原液) 		非イオンタイプ。洗浄力に優れ、特に油分に対して強力な洗浄力を発揮。
M-LO 常溫～40℃ 1～10% 6.0
(原液) 		非イオンタイプ。成分中にイオン性物質を含まず、低泡性でブラシ洗浄に使用可能。


無機アルカリ性洗浄剤

成膜時の膜の密著性を向上。低泡性でブラシ洗浄に使用可能。

製品名 使用溫度 使用濃度 pH 特長
L.G.L 常溫～60℃ 1～5% 11.7
(2%) 		特殊界面活性剤、特殊キレート剤を配合し高い洗浄力を発揮。
KG 常溫～60℃ 1～5% 11.9
(2%) 		指紋、オイルミストなどの油分を強力に洗浄し、優れたリンス性を発揮。
RPG-1 常溫～50℃ 1～5% 12.2
(2%) 		分散性が高く、研磨剤などの微小なパーティクル除去に*適。
NA-1 常溫～60℃ 1～5% 12.2
(2%) 		成分中にリンを含まず、洗浄剤殘渣も簡単に溶解。
MG 常溫～60℃ 1～5% 12.4
(2%) 		非常に優れた洗浄力があり、研磨剤、紙ヤケなどを簡単に短時間で除去。
SD 常溫～60℃ 1～5% 12.5
(2%) 		高い洗浄力があり、特にパーティクルの除去に*適。


有機アルカリ性洗浄剤

成分中にアルカリ金屬を含まず、アルカリ金屬を嫌う部材の洗浄に*適。

製品名 使用溫度 使用濃度 pH 特長
LC-2 常溫～60℃ 2～10% 10.4
(10%) 		高い洗浄力があり、TFT用ガラス基板の受け入れ洗浄に*適。
MF-2 常溫～60℃ 1～10% 12.0
(2%) 		成膜時、膜の密著性が向上し、TFT用ガラス基板の成膜前の洗浄に*適。


酸性洗浄剤

ガラス基板、レンズ、その他光學部品、水晶などに付著した研磨剤の除去。

製品名 使用溫度 使用濃度 pH 特長
DS-S 常溫～60℃ 0.5～2% 2以下
(1%) 		有機酸を使用し、研磨剤、ガラスカレットを強力に除去。


アルミ膜基板用洗浄剤
アルミ反射膜、アルミ電極の洗浄。

製品名 使用溫度 使用濃度 pH 特長
A-1 常溫～50℃ 2～5% 11.6
(2%) 		レジスト殘渣や金屬イオンなどを除去。低泡性でブラシ洗浄に使用可能。
A-2 常溫～50℃ 2～5% 11.6
(2%) 		リンス性の優れたアルカリタイプ。BOD?CODが低く、排水処理コストを軽減。


ポリイミド配向膜用洗浄剤
ラビング後のパーティクルの除去。

製品名 使用溫度 使用濃度 pH 特長
RB-1 常溫～60℃ 5% 中性 ラビングで生じるパーティクルを除去し、特に優れたリンス性を発揮。


國內免費咨詢專線：4008-933-365

_無機堿性清洗劑

LINDA橫浜油脂_NA-1_無機堿性清洗劑

LINDA橫浜油脂_NA-1_無機堿性清洗劑

LINDA橫浜油脂_NA-1_無機堿性清洗劑

LINDA橫浜油脂_NA-1_無機堿性清洗劑

ガラス基板用洗浄剤

中性洗浄剤

洗浄物に対して影響が少なく、レンズ、光學部品、精密部品の洗浄にも使用可能。

製品名 使用溫度 使用濃度 pH 特長
M-1 常溫～40℃ 1～10% 6.5
(原液) 		非イオンタイプ。油分、研削剤、塵埃などの汚れを乳化分散、除去。
M-2 常溫～80℃ 1～10% 7.2
(原液) 		非イオン、アニオン併用タイプ。高溫での洗浄が可能で、優れた洗浄力を長期維持。
M-4 常溫～40℃ 1～10% 8.4
(原液) 		非イオンタイプ。洗浄力に優れ、特に油分に対して強力な洗浄力を発揮。
M-LO 常溫～40℃ 1～10% 6.0
(原液) 		非イオンタイプ。成分中にイオン性物質を含まず、低泡性でブラシ洗浄に使用可能。


無機アルカリ性洗浄剤

成膜時の膜の密著性を向上。低泡性でブラシ洗浄に使用可能。

製品名 使用溫度 使用濃度 pH 特長
L.G.L 常溫～60℃ 1～5% 11.7
(2%) 		特殊界面活性剤、特殊キレート剤を配合し高い洗浄力を発揮。
KG 常溫～60℃ 1～5% 11.9
(2%) 		指紋、オイルミストなどの油分を強力に洗浄し、優れたリンス性を発揮。
RPG-1 常溫～50℃ 1～5% 12.2
(2%) 		分散性が高く、研磨剤などの微小なパーティクル除去に*適。
NA-1 常溫～60℃ 1～5% 12.2
(2%) 		成分中にリンを含まず、洗浄剤殘渣も簡単に溶解。
MG 常溫～60℃ 1～5% 12.4
(2%) 		非常に優れた洗浄力があり、研磨剤、紙ヤケなどを簡単に短時間で除去。
SD 常溫～60℃ 1～5% 12.5
(2%) 		高い洗浄力があり、特にパーティクルの除去に*適。


有機アルカリ性洗浄剤

成分中にアルカリ金屬を含まず、アルカリ金屬を嫌う部材の洗浄に*適。

製品名 使用溫度 使用濃度 pH 特長
LC-2 常溫～60℃ 2～10% 10.4
(10%) 		高い洗浄力があり、TFT用ガラス基板の受け入れ洗浄に*適。
MF-2 常溫～60℃ 1～10% 12.0
(2%) 		成膜時、膜の密著性が向上し、TFT用ガラス基板の成膜前の洗浄に*適。


酸性洗浄剤

ガラス基板、レンズ、その他光學部品、水晶などに付著した研磨剤の除去。

製品名 使用溫度 使用濃度 pH 特長
DS-S 常溫～60℃ 0.5～2% 2以下
(1%) 		有機酸を使用し、研磨剤、ガラスカレットを強力に除去。


アルミ膜基板用洗浄剤
アルミ反射膜、アルミ電極の洗浄。

製品名 使用溫度 使用濃度 pH 特長
A-1 常溫～50℃ 2～5% 11.6
(2%) 		レジスト殘渣や金屬イオンなどを除去。低泡性でブラシ洗浄に使用可能。
A-2 常溫～50℃ 2～5% 11.6
(2%) 		リンス性の優れたアルカリタイプ。BOD?CODが低く、排水処理コストを軽減。


ポリイミド配向膜用洗浄剤
ラビング後のパーティクルの除去。

製品名 使用溫度 使用濃度 pH 特長
RB-1 常溫～60℃ 5% 中性 ラビングで生じるパーティクルを除去し、特に優れたリンス性を発揮。


國內免費咨詢專線：4008-933-365

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